与电弧PVD工艺不同，在溅射PVD工艺中，涂层材料并没有被首先熔化后变为气体，而是从固体直接转变为气体状态。因此能够确保在整个气化过程中不形成液滴（在涂层表面的珠形微粒子），并因此而生成非常光滑的涂层表面。此外，生产溅射PVD涂层的温度范围大大低于CVD工艺所需的温度范围。从理论上说，溅射PVD涂层对于元素的选择没有限制–这点完全区别于电弧PVD和CVD工艺。溅射技术打开了对涂层材料进行无限选择和组合的大门。
溅射技术的市场领跑者
20年以来，溅射PVD工艺已经构成了高品质涂层的基础。在此期间，我们开发的涂层系统第一次使对新材料的经济加工成为可能，并可明显改善刀具的使用性能。
我们拥有的在涂层、工艺和技术方面的多项专利证明了我们无可比拟的市场领跑者的地位。早在1988年，CemeCon就已经在TiAlN涂层的工业规模化应用方面取得了成功。
CemeCon涂层系统的优点：
表面极其光滑
高硬度和高热硬性
结合力超强
抗氧化温度高
低摩擦系数
极小的内应力
对刃口钝化小
具有成本效益的大批量与小批量的生产
灵活选择涂层材料
确保一个美好的未来，几乎可以在任何基体上涂覆任何涂层材料
PVD溅射工艺
生产出极其光滑的涂层